Unter strengster Geheimhaltung wurde in China ein Prototyp zum Bau von Nanochips gebaut. Eine Technologie, die bislang nur von einem Unternehmen – ASML – beherrscht wurde. Im Westen wird dies schon als “Manhattan-Projekt 2.0” bezeichnet. So groß ist die Tragweite dieser Entwicklungen.
Der Westen hielt sich für unantastbar. Jahrzehntelang galt die extreme Ultraviolett-Lithografie als sakrosanktes Terrain westlicher Ingenieurskunst, bewacht von Exportkontrollen, Geheimhaltungsverträgen und der trügerischen Gewissheit, dass Komplexität allein schon als Schutzwall genügt. Während Washington glaubte, mit Verboten und Sanktionen etwas erreichen zu können, wurde in Shenzhen an einem Prototyp gearbeitet. Ganz heimlich wurde dort eine EUV-Lithografiemaschine zusammengebaut. Ohne dieses Gerät geht in der modernen Chipproduktion nichts.
Bereits Anfang 2025 wurde der erste Prototyp fertiggestellt. Und das mithilfe von Fachingenieuren des niederländischen Unternehmens ASML, dem weltweit einzigen Hersteller von EUV-Lithografiemaschinen. Das sind Spezialisten, die über Wissen und praktische Erfahrungen verfügen, die nirgends dokumentiert sind. Dass nun Peking dieses Schlüsselpersonal (viele davon sind Chinesen) abgeworben hat, ist für die westliche Techindustrie in Albtraum. Denn China verfügt nun über die Möglichkeit, selbst solche Hochleistungschips zu bauen, die insbesondere für die KI-Datenzentren immer wichtiger werden.
Um zu verstehen, warum dieses Projekt geopolitisch so von Bedeutung ist, muss man verstehen, was EUV überhaupt bedeutet. Extreme Ultraviolett steht für eine Lichtart mit einer Wellenlänge von rund 13,5 Nanometern. Dieses Licht ist so kurzwelllig, dass es nicht einmal durch Luft reisen kann. EUV-Maschinen arbeiten deshalb im Vakuum, mit Lasern, die zehntausendfach pro Sekunde auf winzige Zinntropfen feuern. Dabei entsteht ein Plasma von rund 200.000 Grad Celsius, das genau jenes Licht erzeugt, mit dem Milliarden Transistoren auf Silizium geschrieben werden. Statt Linsen braucht es Spiegel, deren Oberflächen atomar glatt sein müssen. Schon kleinste Abweichungen ruinieren ganze Chip-Wafer.
Wenn man nun bedenkt, dass ASML fast zwei Jahrzehnte und Milliardeninvestitionen dafür brauchte, um aus Laborexperimenten eine Serienproduktion zu machen, wird das ganze Ausmaß dieser Entwicklungen deutlich. Peking hat sich das praktische Wissen dafür mit den ASML-Ingenieuren – und alten ASML-Maschinen – quasi eingekauft. Nun steht ein Prototyp da und in vielleicht nur mehr ein bis zwei Jahren kann das Reich der Mitte dank der Kooperation von staatlichen Instituten und der chinesischen Techindustrie unter Führung von Huawei vielleicht schon damit beginnen, selbst solche Nanochips in Serie herzustellen.
Mehr noch spricht man im Westen bereits von einem chinesischen “Manhattan-Projekt 2.0”. Denn das Projekt in Shenzen gleicht mehr einer Kriegswirtschaft, da mit Tarnidentitäten, abgeschotteten Laboren und wochenlanger “Internierung” der Mitarbeiter in den Laborkomplexen gearbeitet wurde. Eine Geheimhaltung, die man sonst nur von ähnlich umfangreichen Projekten in Kriegszeiten kennt.
Auch wenn es noch ein langer, steiniger Weg sein wird, bis die Chinesen technologisch in diesem Bereich mit dem Westen gleichziehen können, ist der Grundstein dafür mit dem ersten Prototyp nun gelegt.
